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13年专业废气处理设备生产厂家
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13年专业废气/废水处理设备生产厂家
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项目背景：此项目位于浙江省湖州市，是专业生产半导体的企业，在光刻和蚀刻过程中产生大量挥发性有机废气，包括PGME、PGMEA等成分，处理风量45000m³/hr，排放浓度为300mg/m³。
治理工艺：沸石转轮+TO
浓缩倍数：15倍
设计方案：该项目采用沸石转轮浓缩+直燃式热氧化(TO)的治理方案。废气经主工艺风机输送至沸石转轮，废气中的VOCs被沸石吸附后达标排放至大气中，由脱附风机输送的热气将VOCs从沸石中脱附出来，再由TO风机输送至TO反应器中，被氧化成CO2和H2O，达标排放至大气中。
验收情况：经过本系统处理后的废气，VOCs的排放浓度及排放速率均能满足浙江省《工业企业挥发性有机物排放控制标准》(DB 12/524-2014)表2中电子工业半导体制造行业限值要求，废气净化率可达90%以上，且无二次污染。
项目背景：此项目位于浙江省湖州市，是专业生产半导体的企业，在光刻和蚀刻过程中产生大量挥发性有机废气，包括PGME、PGMEA等成分，处理风量45000m³/hr，排放浓度为300mg/m³。
治理工艺：沸石转轮+TO
浓缩倍数：15倍
设计方案：该项目采用沸石转轮浓缩+直燃式热氧化(TO)的治理方案。废气经主工艺风机输送至沸石转轮，废气中的VOCs被沸石吸附后达标排放至大气中，由脱附风机输送的热气将VOCs从沸石中脱附出来，再由TO风机输送至TO反应器中，被氧化成CO2和H2O，达标排放至大气中。
验收情况：经过本系统处理后的废气，VOCs的排放浓度及排放速率均能满足浙江省《工业企业挥发性有机物排放控制标准》(DB 12/524-2014)表2中电子工业半导体制造行业限值要求，废气净化率可达90%以上，且无二次污染。
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